紅外吸收光譜分析結(jié)果顯示:氣流磨所產(chǎn)生的超音速氣流機(jī)械力對(duì)硅灰石、硬脂酸進(jìn)行機(jī)械力化學(xué)改性，產(chǎn)生良好的超細(xì)粉碎一表面改性效果。但是，硬脂酸/硅灰石復(fù)合粉體兩者界面行為如何?改性硅灰石的粒徑、長徑比變化程度如何?仍然需要研究。因此，根據(jù)紅外吸收光譜分析結(jié)果，分別對(duì)上述試樣進(jìn)行掃描電子顯微鏡分析。SEM研究試臉分別在中國地質(zhì)大學(xué)(武漢)側(cè)試中心的KYKY一AMRAY一1000B掃描電子顯徽鏡和廈門大學(xué)分析測試中心的HITACHIS-520(日本生產(chǎn))掃描電子顯傲鏡下進(jìn)行徽觀形貌和傲觀結(jié)構(gòu)觀察。樣品同紅外吸收光諾試樣，包括硬脂膠、硅灰石經(jīng)超音速氣流磨機(jī)械力化學(xué)改性后的產(chǎn)物,320目硅灰石粉以及超細(xì)硅灰石粉。目的是:①比較原320目硅灰石粉與320目硅灰石經(jīng)超裔速氣流磨超細(xì)粉碎后的傲觀形膠、長徑比的變化，以探討硅灰石經(jīng)超音速氣流磨的粉碎效果。②分析觀察硬脂膠、硅灰石經(jīng)超音速氣流腳機(jī)械力化學(xué)改性后，粉體表面的徽觀特征，包括長徑比、粒徑、表面徽觀結(jié)構(gòu)等。
    樣品系硅灰石礦經(jīng)雷蒙磨粗加工后的粉體(產(chǎn)地:龍巖)。從照片中可見，硅灰石粉體位徑多數(shù)為80 X 15-48 X 10m其次為16X5(5m);長徑比多數(shù)為8-1--3,1，大的為1081.照片中少盆粉體呈位狀，系方解石、進(jìn)輝石、石英等。
    SEM照片3-1~3-2,系超細(xì)硅灰石粉。試樣系由上述320目硅灰石經(jīng)QS50型超音速氣流解粉碎，肉眼觀察該粉體明顯呈團(tuán)聚狀。SEM照片顯示，粉體相互縫結(jié)，有的呈不規(guī)則樹枝狀。粉體拉徑多效為17X4.3-33X3.9(m);長徑比一般為5：1-8.5：1，大的可達(dá)20：1，但數(shù)量不多。顯然，320目硅灰石受氣流磨機(jī)械力作用后，粉體位徑變小，長徑比不但未被破壞。反而有所提高。